三星电子在平泽的新代工线最早将于今年6月投产。位于平泽2工厂（P2）的全新晶圆生产线已经调试完毕。平泽1工厂（P1）于2017年6月开始量产，而P2工厂于2018年破土动工。
新工厂于2020年下半年开始量产面向移动设备的第三代10纳米LPDDR5 DRAM，制造工艺中运用了EUV光刻设备，LPDDR是低功耗双数据速率的缩写。
除了DRAM生产线外，平泽P2还拥有超微晶圆代工生产线和下一代V-NAND闪存生产线，计划于2021年投产。
三星电子一位高层表示，按照最初的计划，平泽P2的所有生产线将在2021年下半年投产。
业内人士表示："据我所知，平泽P2从2021年开始就一直在提高运转率"。