台积电今年要大规模量产3nm工艺了，三星也是，两家还要在2025年左右量产2nm工艺，对EUV光刻工艺的需求更高，而ASML今年底也会出货新款EUV光刻机NXE:3800E，2nm工艺就靠它了。
ASML是唯一能量产EUV光刻机的公司，而且迭代了多次，主要是提升能效及产能，目前最新的型号是NXE:3600D，NXE:3800E计划是年底出货，进一步降低EUV光刻的成本。
NXE:3800E光刻机的曝光能力将达到30mJ/cm2，WPH每小时产能大约是195片晶圆，后续还会提升到220片晶圆/小时，产能比当前型号高出30%以上。
至于售价，NXE:3800E的价格还没有权威说法，但是此前EUV光刻机就卖到1.5亿美元以上，这两年还有通胀等因素，价格10亿起步是少不了的。
未来的高NA孔径EUV光刻机会更贵，价格轻松突破25到30亿元之间。
NXE:3800E光刻机今年底出货的话，考虑到安装、调试及生产的周期，未来台积电、三星会主要在2nm节点使用，而高NA孔径的下一代光刻机要解决的是1nm及之后的工艺。
