近日,网上疯传清华大学弯道超车,已经突破EUV光刻机项目,实现了光刻机的巨大化、工厂也已经在雄安新区落地,就是下图中这个样子:难道这真的是国产光刻机工厂?不,中国电子院对此做出了详细的解读:这是北京高能同步辐射光源项目(HEPS)!
HEPS坐落于北京怀柔雁栖湖畔,是国家“十三五”重大科技基础设施。
它是我国第一台高能量同步辐射光源,也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一,早在2019年就开始建设,将于2025年底投入使用。
△北京高能同步辐射光源项目实拍图
HEPS的作用是通过加速器将电子束加速到6GeV,然后注入周长1360米的储存环,用接近光速的速度保持运转。
电子束在储存环的不同位置通过弯转磁铁或者各种插入件时,就会沿着偏转轨道切线的方向释放出稳定、高能量、高亮度的光,也就是同步辐射光。
简单的说,HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机。
它产生的小光束,可以穿透物质、深入内部进行立体扫描,从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界。
HEPS是进行科学实验的大科学装置,并不是网传的光刻机工厂。
该项目由全国勘察设计大师、国投集团首席科学家娄宇带队,中国电子院多个技术科研和设计团队协同合作。
从项目可研立项到项目落地,中国电子院攻克了多项技术和工艺难关,解决了项目不均匀沉降、微振动控制、超长结构设计、光伏板设计、精密温度控制、工艺循环冷却水系统、超复杂工艺系统等七大技术难题,实现了重大技术突破,指标控制达到了国际先进水平。
目前高能同步辐射光源配套工程已全面完工,向产生世界最“亮”的光又更近了一步。
虽然HEPS不是光刻厂,但关于光刻厂的信息之所以能在自媒体平台迅速刷屏,归根到底,还是源于大众对解决“卡脖子”难题的期待。
中国电子院也在,助力“中国芯”之路上持续发力,从建院之初,便开启了中国“芯”的起步。
近年来,中国电子院深耕细做半导体行业,承担了国内超过50%的存储芯片项目,为国家在电子信息领域实现科技自立自强做出了重要贡献。
中国电子院自主开发了核心算法和数字化技术,已推出“先进电子制造数字孪生工厂解决方案1.0版”,致力于实现生产制造“绿色、低碳、精益、高效”建设目标。
国家存储器基地:国内唯一本土企业主导的12英寸3D闪存生产线项目
中芯京城:国内规模最大的12英寸集成电路先进工艺生产线项目
广州粤芯:广东省第一座成功量产的12英寸集成电路芯片制造厂
福建晋华:第一条由本土企业建设并运营的12英寸DRAM芯片生产线
合肥晶合:国内第一座EPC模式新建的12英寸厂
英诺赛科:国际领先8英寸硅基氮化镓芯片生产线
厦门士兰微:国内第一条12英寸特色工艺IDM芯片制造
西安奕斯伟:国内规模最大12英寸硅片生产线
厦门通富微电:世界级绿色标杆集成电路封装测试基地
德州仪器(成都):全球模拟芯片龙头企业先进封装项目