佳能计划将其新型芯片制造设备的定价定在阿斯麦最佳光刻机成本的一小部分，寻求在尖端设备领域取得进展。佳能此前推出了纳米压印半导体制造系统，试图通过将该技术定位为比现有最先进工具更简便、更易获取的替代方案，来重振其市场地位。
佳能的新型芯片制造机器可以利用极紫外光刻（EUV）技术，生产相当于5纳米规模的电路，这一领域由行业领导者阿斯麦垄断。佳能预计，随着技术的持续进步和优化，其设备将有望实现下一代2纳米的生产水平。
该公司首席执行官Fujio Mitarai表示，该公司的新纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯片开辟一条道路，目前这种技术几乎完全属于该行业最大的公司。
Mitarai表示，“这款产品的价格将比阿斯麦的EUV设备低一位数，”他还表示，最终的定价决定还没有做出。
阿斯麦是EUV工具的唯一供应商，这种设备是世界上最先进的芯片制造机器，每台价值数亿美元。只有少数现金充裕的公司有能力投资于这些工具，这些工具目前正因其在科技供应链中的关键地位而受到审查。在美国向其盟友施压，要求其限制技术流向中国之后，阿斯麦被禁止向中国客户出口EUV系统。
这给佳能上个月上市的新工具带来了希望。今年7月，日本扩大了对芯片制造出口的限制，但没有明确提到纳米压印光刻技术。
但Mitarai表示，佳能可能无法将这些机器运往中国。“我的理解是，14纳米技术以上的任何产品都是禁止出口的，所以我认为我们卖不出去。”日本经济产业省一位官员表示，他无法评论出口限制将如何影响某家公司或产品。
佳能与Dai Nippon Printing Co.和存储芯片制造商铠侠合作研究纳米压印工艺已有近十年的时间。与通过反射光工作的极紫外光刻技术不同，佳能的技术将电路图案直接印在晶圆上，从而制造出据称与最先进节点相当的几何形状的芯片，尽管速度要慢得多。
这台新机器让芯片制造商可以选择降低对代工厂的依赖，同时也让台积电和三星电子等代工芯片制造商更有可能批量生产芯片。佳能表示，这种机器所需的功率只有其EUV同类产品的十分之一。
Mitarai表示:“我不认为纳米压印技术会取代EUV，但我相信这将创造新的机会和需求。”“我们已经收到了很多客户的咨询。”
佳能此前一直专注于制造不太先进的芯片，2014年开始押注于纳米印记技术，收购了Molecular imprint Inc.。作为台积电的供应商之一，佳能正在东京北部的宇都宫建设其20年来的第一家光刻设备新工厂，将于2025年投产。