今天，荷兰政府与美国结盟，扩大了对ASML公司生产的其他机器的监督，这使中国通过依赖旧机器来加强国内芯片制造的尝试遭到了打击。ASML最新的芯片制造设备使用紫外线打印电路，被称为EUV光刻机，早已经被荷兰和美国限制向中国出售。
然而，这样一来，一些旧型号机器只受到美国的限制，这就引发了荷兰的主权问题，因为一个外国政府对荷兰制造的产品施加了影响。
在荷兰政府采取这一最新举措之前，截至今年 7 月，中国在芯片制造设备上的花费已达到创纪录的 260 亿美元。虽然美国和荷兰对 EUV 扫描仪的制裁实际上削弱了中国通过 3 纳米和 5 纳米等工艺技术制造尖端芯片的能力，但较老的 DUV 扫描仪却使中芯国际等中国公司得以制造 7 纳米芯片。
荷兰贸易部长 Reinette Klever 今天宣布了这一决定，并表示"由于技术的发展，这些特定生产设备的出口存在更多的安全风险"。有关机器是 ASML 的 TWINSCAN NXT:1980Di 和 TWINSCAN NXT:1970Di 工具，该公司在部长宣布后的一份声明中证实了这一点。
1980Di 尤其侧重于多重图案化。ASML 网站上的扫描仪产品简介指出，该机器"可满足多重图案化要求，从而为我们的客户提供先进节点的高性价比解决方案"。
随着 1980i DUV 系统被列入荷兰政府的出口管制许可证要求清单，ASML 的第一级 DUV 产品组合已完全被许可证要求所覆盖。1980i 是最低端的 DUV 扫描仪，被称为浸入式机器。它们是业内使用最广泛的扫描仪，每天可生产 6000 多片硅晶片。这些机器还可以通过套件升级为下一代 EUV 扫描仪，今天的公告发布后，ASML 将不得不向荷兰政府申请出口这些机器的许可证，而不是向美国政府申请。
新规定明天生效，ASML 公司分享了这一消息，并补充说，由于该公司已就机器出口寻求美国政府批准，因此荷兰制裁对该公司的财务影响很小。
虽然超紫外设备为半导体制造工艺带来了一系列新的复杂性，但它们也降低了复杂性，因为芯片制造商可以使用更精细的光束在硅片上打印电路。通过老式的 DUV 机器进行多重图案化也能达到类似的效果。最新的一套规则似乎是针对中国的这种变通能力，而这种变通往往也是以降低产量和产品质量为代价的。