ASML已经确认，即将出货最新款的EUV光刻机EXE:5200，相比上代来说，表现更加强悍，当然不会卖给中国厂商。按照官方的说法，EXE:5200是现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进款，其将拥有更高的晶圆吞吐量（EXE:5000为每小时185片以上），可以更好的为2nm工艺量产做支撑。
在这之前，ASML宣布英特尔订购了业界首个TWINSCAN EXE:5200光刻机（一种具有高数值孔径和每小时 200 多片晶圆的极紫外 (EUV) 大批量生产系统），这标志着他们在引入0.55 NA EUV的道路上又迈出了一步。
TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均提供了0.55数值孔径，比前代EUV光刻机0.33数值孔径透镜的精度提高了，可以为更小的晶体管功能提供更高分辨率的模式。
EUV 0.55 NA 的设计旨在从2025年开始实现多个未来节点，这是业内首次部署，随后将采用类似密度的内存技术。
