在当今半导体产业中，ASML无疑是光刻设备领域的王者，全球最先进的半导体制造厂商，如台积电、英特尔、三星等，都高度依赖ASML提供的设备。然而，很少有人知道，这个如今在全球占据主导地位的巨头，最初竟然是从一个会漏水的棚子起步的。
根据最新报道，ASML最初是由飞利浦与先进半导体材料国际公司（ASMI）合作创立的，当时，两家公司看到了曝光设备市场的潜力，决定共同建立一家专注于这一领域的新公司。
不过ASML的起点并不理想，它的第一个基地位于荷兰恩荷芬的Strijp-T原飞利浦园区，那是一个真正会漏水的单层预制建筑，与飞利浦TQ大楼的一楼相连，旧照片显示，当时的ASML基地确实是一个摇摇欲坠的棚子。
在1970年代初的研发基础上，ASML很快推出了其首个系统——PAS 2000 stepper曝光机，公司业务也迎来蓬勃发展。
1985年，ASML迁入了专门为它建造的办公室和工厂，巧合的是，ASML与镜头制造商卡尔蔡司的合作关系也在此时签署，并一直持续至今。
进入1990年代，ASML推出了其突破性平台PAS 5500曝光设备，凭借这一成功，ASML凭借其领先业界的曝光设备生产力和分辨率，最终在荷兰和纽约证券交易所成功上市。
2001年，ASML推出了第一台采用革命性双级技术的Twinscan机器，如今，ASML凭借其EXE平台和High-NA技术再次达到了竞争对手无法突破的界限。
ASML最新的年度报告显示，其营收接近310亿美元，业务遍及60多个国家地区，员工超过44000名。
